產品介紹

以等離子體為熱源將相應粉末加熱到熔融或半熔融狀態并高速沖擊背管表面形成致密涂層，從而制備出高純度、高致密度Si靶材。

應用領域

用于制作SiO₂/Si₃N₄膜，主要用于光學玻璃，觸摸屏之AR膜系，Low-E鍍膜玻璃，半導體電子，平面顯示，觸摸屏。